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FJL560磁控濺射與離子束系統
編號:1
類別:離子束濺射鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途 

     

        用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

    設備組成 

     

        系統主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統、離子源及安裝機臺等部分組成。

    極限真空度:≤6.6x10-5Pa;

    抽速:40分鐘可達到6.6x10-4Pa;

    磁控濺射靶組件:2英寸x4套;

    直流濺射電源:500Wx2套;

    射頻濺射電源:500Wx2套;

    樣品尺寸:φ30mmx6片;

    樣品臺溫度:600℃;

    濺射離子槍:1套;

    輔助離子槍:1套;

    四工位轉靶:1套;

    質量流量控制器:3套;

    分子泵系統:1套;

    控制系統:觸摸屏點動控制:樣品公轉、樣品自轉、基片擋板轉動、樣品控溫、四工位轉靶、質量流量控制器、真空計、直流濺射電源、射頻濺射電源。

    冷卻水路系統:1套。

    公司:中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司 

    地址:沈陽市渾南新區新源街1

    銷售電話:024-23826899、024-23826855

    售后電話:024-23826838

    傳真:024-23826828

    郵箱:sales@sky.ac.cn

    網址:www.titus2ministry.com

    開戶行:建行沈陽渾南新區產業園分理處

    賬號:2100 1394 6010 5958 1266

    納稅號:912101 0041 0581 2660

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